ICP 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [Self bias 및 ICP E/H mode]

2020.09.08 18:07

공대생입니당 조회 수:2768

교수님 안녕하세요, 플라즈마 관련 공부를 하고 있는 취업준비생입니다.

ICP 장비를 공부하다가 궁금한점이 생겨서 질문 올립니다.

1. ICP장비는 소스파워로 이온 밀도를 조절하고, 바이어스 파어로 이온 에너지를 조절한다고 하는데, 소스파워는 이해가 가는데

바이어스 파워로 이온 에너지를 조절한다는 메커니즘이 이해가 안갑니다. 블로킹 커패시터를 달아서 한다고 하는데, 이해가 안가네요..

 

2. capacitive coupling이라는 현상으로 인해 벽이 스퍼터 되는 문제점이 발생한다고 하는데, 이 벽이 스퍼터 된다는게

플라즈마가 균일하지 않게 된다는 말일까요?

 

3. 이 질문은 PE CVD 관련 질문인데요, PECVD를 진행할 때 전극 면적비를 같게 하는 이유가 라디칼을 이용한 증착 방법이기 때문에

   이온의 영향을 줄이기 위함이다. 이렇게 생각했는데, 제 생각의 논리가 맞을지 궁금합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [337] 111538
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 27849
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 65126
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 76960
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 111214
33 Ion 입사각을 확인하는 방법 문의드립니다 [식각 플라즈마의 가장자리 균일도 제어] [1] 491
32 micro arc에 대해 질문드립니다. [DC glow 방전과 breakdown 전기장] [1] 672
31 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [식각 교재 참고] [1] file 814
30 ICP에서 biasing 질문 [RF sheath와 self bias] [1] 848
29 ICP에서의 Self bias 효과 [DC offset voltage와 floating potential] [1] 1018
28 ICP 대기압 플라즈마 분석 [Collisional plasma, LTE 모델] [1] 1051
27 skin depth에 대한 이해 [Stochastic heating 이해] [1] 1073
26 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [국부 전기장 형성 및 edge 세정] [1] 1345
25 공정플라즈마 [플라즈마 입자 거동 및 유체 방정식] [1] 1547
24 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [Cleaning procedure 플라즈마 공정진단 기술] [1] 2020
23 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다. [He 혼합비와 플라즈마 밀도] [1] 2033
22 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [ICP match impedance] [1] 2043
21 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [Faraday shield] [1] 2093
20 ICP lower power 와 RF bias [Self bias, Floating sheath] [1] 2176
19 ICP reflecot power [Insulator와 rf leak] [1] 2185
18 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [전기장 내 입자 거동] [2] 2199
17 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [Plasma density와 Balance equation] [1] 2548
16 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [N2 플라즈마] [1] 2567
» 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [Self bias 및 ICP E/H mode] [2] 2768
14 안녕하세요. 교수님 ICP 관련하여 문의드립니다. [충돌 단면적 및 반응 계수] [2] 2833
쓰기
태그

Boards

XE Login