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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 71861
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13 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [Cleaning procedure 플라즈마 공정진단 기술] [1] 1842
12 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다. [He 혼합비와 플라즈마 밀도] [1] 1786
11 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [Plasma density와 Balance equation] [1] 1603
10 공정플라즈마 [플라즈마 입자 거동 및 유체 방정식] [1] 1386
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5 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [식각 교재 참고] [1] file 533
4 ICP에서 biasing 질문 [RF sheath와 self bias] [1] 485
3 micro arc에 대해 질문드립니다. [DC glow 방전과 breakdown 전기장] [1] 382
2 ICP에서 전자의 가속 [Plasma breakdown 이해] [1] 377
1 Ion 입사각을 확인하는 방법 문의드립니다 [식각 플라즈마의 가장자리 균일도 제어] [1] 255

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