안녕하세요 RPS 식각장비을 사용하는 중 문제가 발생하여 문의드립니다.


현재 RPS 장비를 이용한 폴리머 (SU-8, epoxy계열)의 식각 공정을 하는데, 주로 골드가 증착된 웨이퍼 위에 코팅한 폴리머를 지우는 용도로 쓰고있습니다.


사용하는 가스는 N2, O2, CF4 가스를 사용하고 있으며, 공정 조건은 0.45Torr 압력의 40도 공정조건을 사용하고 있습니다.


헌데 얼마전부터 에칭과정에서 골드기판이 손상되는 현상이 발생하였는데, 아직 그 원인을 찾지 못하고 있습니다. 이론적으로는 메탈이 손상될 일이 없어야하는걸로 알고 있습니다. 잠정적으로는. 폴리머 애칭시 생성되는 byproduct (HF) 에 의한 손상이라 생각되는데, HF의 높은 증기압을 생각하면 꼭 그렇지도 않은것 같고, 챔버의 벤팅문제라 생각되어 펌프를 정비받았으나, 이 또한 문제가 없다고 합니다. 


골드기판이 손상되는 경우에는 보통 풀라즈마 밝기가 평소보다 약하게 발생하는 특징이 있습니다. 이제는 플라즈마 정비 내부에 문제가 있다 생각이 되는데 교수님 의견을 듣고 싶습니다. 감사합니다

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [282] 77200
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20462
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57359
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68898
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92945
21 CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [1] 36
20 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 117
19 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [1] 121
18 Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] 725
17 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [1] 464
16 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] 1234
15 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] file 1213
14 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 1257
13 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2426
12 remote plasma 데미지 질문 [1] 14503
11 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] 2058
10 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 1057
» RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [1] 767
8 Remote Plasma 가 가능한 이온 [1] 1991
7 RPSC 관련 질문입니다. [2] 4088
6 Remote Plasma에서 Baffle 재질에 따른 Plasma 특성 차이 [1] 10400
5 ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] 24424
4 surface wave plasma 에 대해서 [1] 18563
3 PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [2] 24996
2 RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 95840

Boards


XE Login