Remote Plasma Remote Plasma 가 가능한 이온

2017.09.23 14:13

parkura 조회 수:1972

안녕하세요


Remote Plasma 를 활용한 depo chamber 의 설계를 준비하고 있습니다.


현재 막질 depo 후 후속 radical 을 이용하여 막질의 densification 을 하기 위해 post plasma treatment 를  하고자 하는데요


현재 N2, H2, NH3 를 radical source 로 고려하고 있습니다.


N2 의 remote plasma 는 가능한 걸로 알고 있는데, H2 의 경우 H* (radical ion) 는 생성 후 먼거리 도달의 한계가 있거나, 또는


쉽게 H2 로 변한다는 것으로 알고 있어서 radical souce 로 활용이 가능한지 궁금합니다.


NH3 도 가능한지 궁금합니다.


Remote plasma 의 설비 설계시 ion 들의 직진성이 고려되도록 설계가 되어야 하는지요.. path 가 복잡할 시 plasma 효과를 볼 수 없게 되는지요..


조언 부탁드립니다.


감사합니다.


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] 76897
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20286
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57205
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68759
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92719
20 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 62
19 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [1] 78
18 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [1] 451
17 Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] 625
16 RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [1] 762
15 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 1050
14 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] file 1191
13 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] 1204
12 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 1221
» Remote Plasma 가 가능한 이온 [1] 1972
10 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] 2035
9 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2402
8 RPSC 관련 질문입니다. [2] 4061
7 Remote Plasma에서 Baffle 재질에 따른 Plasma 특성 차이 [1] 10380
6 remote plasma 데미지 질문 [1] 14488
5 In-flight plasma process 15506
4 surface wave plasma 에 대해서 [1] 18553
3 ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] 24368
2 PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [2] 24991
1 RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 95775

Boards


XE Login