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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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Istnieją jej towarzystwem typami, wysokokontaktowej klasie randek
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[질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문
[2] | 455 |
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EEDF, IEDF, Cross section관련 질문
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Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다.
[3] | 377 |
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Wafer particle 성분 분석
[1] | 1267 |
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charge effect에 대해
[2] | 832 |
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Plasma 발생영역에 관한 질문
[2] | 712 |
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고전압 방전 전기장 내 측정
[1]  | 605 |
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I-V characteristic에 관하여 질문이 있습니다.
[1] | 512 |
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OES 원리에 대해 궁금합니다!
[1] | 4804 |
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langmuir probe관련하여 질문드리고 싶습니다.
[1] | 514 |
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VI sensor를 활용한 진단 방법
[2] | 841 |
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플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다.
[1] | 329 |
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활성이온 측정 방법
[1] | 282 |
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22 |
DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단
[1] | 622 |
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21 |
잔류가스분석기(RGA)에 관하여 질문드립니다.
[1] | 1220 |
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ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화
[1] | 1024 |
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자료 요청드립니다.
[1] | 4717 |
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[질문] Plasma density 측정 방법
[1] | 22054 |
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pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련..
[1] | 22086 |
