Monitoring Method Wafer particle 성분 분석

2019.03.26 06:46

키보드매니아 조회 수:2320

안녕하세요.

반도체업계 종사자인 이우림이라고 합니다


다름이 아니라 300mm wafer위에 파티클 오염 분석을 진행중인데요.

혹시 300mm wafer를 coupon이 아닌 full wafer 상태로 삽입하여 wafer위의 파티클 성분 분석이 가능한 장비를 보유한 연구소를 알고 계신지요?

향후 분석에 꼭 필요한데 해당 장비 보유한 연구소를 찾지 못하는 상황입니다.

혹은 장비 관련 정보라도 알려주시면 감사하겠습니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76726
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20178
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57166
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68697
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92275
43 ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [1] 435
42 OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] 586
41 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [1] 714
40 OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [1] 758
39 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] 603
38 OES 분석 관련해서 질문드립니다. [1] 1365
37 CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [1] 703
36 Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [2] 3322
35 [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [2] 1373
34 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 1642
33 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [3] 1348
» Wafer particle 성분 분석 [1] 2320
31 charge effect에 대해 [2] 1465
30 Plasma 발생영역에 관한 질문 [2] 1454
29 고전압 방전 전기장 내 측정 [1] file 1065
28 I-V characteristic에 관하여 질문이 있습니다. [1] 1318
27 OES 원리에 대해 궁금합니다! [1] 26117
26 langmuir probe관련하여 질문드리고 싶습니다. [1] file 1016
25 VI sensor를 활용한 진단 방법 [2] 2870
24 플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다. [1] 1319
쓰기
태그

Boards

XE Login