Plasma etching 관련하여 공부를 하고 있는 학생입니다.

plasma를 분석하는 대표적인 방법 중 하나가 OES인데 저 역시도 분석장비를 여러번 사용하고 분석도 해보았습니다.

그런데 OES 분석 시 특정 peak의 intensity (height)을 통해 plasma 내 radical의 정성분석을 하게 되는데 왜 특정값만 사용하고 일정 공간의 넓이 (area)로 계산하지 않는지 잘 모르겠습니다.

관련 논문이나 책도 많이 찾아봤는데 "intensity를 분석했다." 라고만 나오고 왜 intensity를 분석했는지에 대해선 안나오더라구요.

개인적인 추측으로는 OES 분석이 각 원자나 분자가 relaxation되면서 방출되는 파장이 불연속적 값이라서지 않을까 생각되긴 하는데 이거만으로는 intensity로 분석하는 것에 대한 근거가 부족하다고 생각이 들었습니다. 

Intensity를 포함하는 일정 영역의 넓이를 계산하지 않고 특정 intensity 값을 통해 분석하는 명확한 이유를 알 수 있을까요?

참고할 수 있는 문헌이 있다면 알려주시면 자세히 읽어보도록 하겠습니다.

감사합니다.