안녕하십니까, 현재 플라즈마에 관하여 연구하고 있는 연구생입니다.

랭뮤어 프로브와 비슷하게 장치를 제작하여 실험을 하는 도중, current의 sign에 혼동이 와서 질문을 드리게 되었습니다.

보통 랭뮤어 프로브에 (+) bias를 가해주면 전자가 프로브에 들어오며, (-) bias를 가해주면 이온이 프로브에 들어오는 것으로 알고있습니다.

이러한 원리는 쉽게 이해가 가능합니다만, 전자가 프로브에 들어오는 경우 왜 I-V curve에서 +값으로 나타내는지 혼동이 됩니다.

만약 멀티미터로 전류값을 측정한다고 하면, 멀티미터의 red line을 프로브에 연결하여야 할 것인데, 위처럼 프로브에 전자가 들어오는 경우는 (-)값으로 나와야 하지 않나요?

정식 랭뮤어 프로브가 아니라 bias 장비와 멀티미터로 측정을 해야 하는 상황인데, 기본적인 세팅에 혼동이 와서 질문 드립니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102956
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24689
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61443
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73484
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105854
23 Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [ONO 공정 중 질화막 모니터링] [2] 3616
22 VI sensor를 활용한 진단 방법 [Monitoring과 target] [2] 3394
21 Wafer particle 성분 분석 [플라즈마 세정] [1] 2624
20 [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [OES, VI 신호 및 가상계측 인자] [2] 2401
19 잔류가스분석기(RGA)에 관하여 질문드립니다. [군산대학교 주정훈 교수님] [1] 2344
18 ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화 [Excitation transfer 반응과 방사천이율] [1] 2201
17 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [Plasma spectroscopy] [1] 2100
16 OES 분석 관련해서 질문드립니다. [Intensity 넓이 계산] [1] 2072
15 charge effect에 대해 [Self bias 및 capacitively couple] [2] 1855
14 Plasma 발생영역에 관한 질문 [Plasma sheath의 형성과정] [2] 1709
13 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [전자 소실 및 플라즈마 전위] [3] 1687
» I-V characteristic에 관하여 질문이 있습니다. [전자전류의 해석] [1] 1677
11 플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다. [B-dot probe, plasma diagnostics] [1] 1555
10 DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [플라즈마 공간 분포 진단] [1] 1444
9 langmuir probe관련하여 질문드리고 싶습니다. [Langmuir probe와 ground] [1] file 1364
8 고전압 방전 전기장 내 측정 [전극과 탐침과의 간격] [1] file 1317
7 OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [수소, Ar 단원자 진단] [1] 1317
6 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [OES와 atomic spectroscopy] [1] 1180
5 CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [핵융합 연구소 자료] [1] 977
4 OES를 통한 공정 개선사례가 있는지 궁금합니다. [플라즈마의 분포와 공정 진단] [1] 958

Boards


XE Login