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공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57401
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68922
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92971
126 CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [1] 53
125 ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [1] 91
124 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [1] 110
123 스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [1] 67
122 플라즈마 설비에 대한 질문 121
121 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] 82
120 Edge ring의 역할 및 원리 질문 [1] 416
119 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 92
118 PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [2] 617
117 CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 [2] 457
116 RF Frequency 가변과 FORWARD POWER의 상관관계 [2] 848
115 CURRENT PATH로 인한 아킹 [1] file 422
114 플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문 [1] 551
113 반사파와 유,무효전력 관련 질문 [2] 382
112 PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의드립니다. [1] 370
111 chamber에 인가 되는 forward power 관련 문의 [1] 383
110 ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [1] file 906
109 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 763
108 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 568
107 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] 661

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