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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 20196 |
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개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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Dry Etcher 내 reflect 현상
[2] | 22239 |
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Arcing
[1] | 28644 |
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RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동
[1] | 24772 |
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CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마...
[1] | 20381 |
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scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다.
[2] | 19213 |
17 |
공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제...
[2] | 26469 |
16 |
MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까?
[3] | 22579 |
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Ground에 대하여
| 39407 |
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Peak RF Voltage의 의미
| 22603 |
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electrode gap
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Electrode 의 역할에 대해서 궁금합니다.
| 17333 |
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반응기의 면적에 대한 질문
| 12809 |
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플라즈마 분배에 관하여 정보를 얻고 싶습니다.
| 13201 |
9 |
CCP/ICP에서 자석의 역활에 대하여
| 19343 |
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esc란?
| 28068 |
7 |
Virtual Matchng
| 16853 |
6 |
Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network)
| 35912 |
5 |
최적의 펌프는?
| 18540 |
4 |
플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항
| 27617 |
3 |
Faraday shielding & Screening effect
| 18352 |