Matcher matching box에 관한 질문

2010.05.05 13:54

김정욱 조회 수:29685 추천:212

안녕하세요...
저는 반도체 회사에서 근무하는 사람입니다..
matching box 관련하여 질문이 있어서 글을 올립니다..
현업에서 matching box관련 monitoring하는 parameter중 Load position과 Tune position이란 게 있습니다..
여기 사이트에서 load capacitor와 tune capacitor 얘기가 언급되어 아마 capacitor 관련 용어인 것으로 짐작
되어 지는데 정확한 의미와 역할을 알고 싶습니다..
제 나름대로 확인한 바로는 impedance matching은 L nework와 Pi network가 있는데 위에서 언급한 Load
capacitor와 Tune capacitor는 Pi network에서 사용되는 2개의 capacitor 이름인가요?
답변 부탁 드립니다..

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] 76881
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20276
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57199
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68754
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92707
122 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] 47899
121 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 41271
120 Ground에 대하여 39476
119 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) 35960
» matching box에 관한 질문 [1] 29685
117 Arcing [1] 28664
116 esc란? 28092
115 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 27650
114 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27219
113 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 26489
112 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 26214
111 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25587
110 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24891
109 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24778
108 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24764
107 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24617
106 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23346
105 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22951
104 Peak RF Voltage의 의미 22621
103 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22583

Boards


XE Login