안녕하세요.교수님

 

이번에 설비사에서 Matcher Plate에 Matcher를 장착할 때 Plate와 Matcher 바닥면 사이 약간의 유격이 있는 상태에서 볼트로 체결하고 RF Power 13.56MHz 2kW 인가 해서 Output 커넥터(20PI 소캣타입)에 아킹이 발생 하였습니다. (크리피지 길이는 충분합니다.)

볼트로 체결하면서 Plate와 Matcher 사이는 완전이 붙었다곤 하지만 제생각엔 완전 면접촉 상태가 아니고 점접촉 상태에서 CURRENT PATH 때문에 아킹이 발생 한 것 같은데 이 원리를 이론적으로 잘 모르겠더라구요..

 

답변 부탁드립니다

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102936
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24689
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61439
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73483
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105846
132 PEALD 챔버 세정법 [1] 269
131 RF ROD 연결부 부하로 인한 SHUNT, SERIES 열화 [2] file 383
130 HF와 LF중 LF REFLECT POWER가 커지는 현상에 대해서 도움이 필요합니다. [2] 450
129 ESC 사용 공정에서 Dummy Wafer Chuck Force 에 대해서 궁급합니다 [1] 761
128 인가전압과 ESC의 관계 질문 [Floating sheath] [1] 597
127 Forward와 Reflect가 계속해서 걸립니다. [RF generator] [2] file 646
126 CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [Chamber impedance 변화] [1] 754
125 ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [플라즈마 생성 공간과 플라즈마 확산] [1] 703
124 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [국부 방전과 chucking] [1] 636
123 스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [열전달 방정식 이해] [1] 259
122 플라즈마 설비에 대한 질문 301
121 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [유전체 상태 모니터링] [1] 343
120 Edge ring의 역할 및 원리 질문 [플라즈마 밀도 및 전위 제어] [1] 1485
119 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 185
118 PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [RF 전원과 matcher] [2] 1173
117 CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 [플라즈마 회로 설계] [2] 848
116 RF Frequency 가변과 Forward Power의 상관관계 [임피던스 매칭] [2] 1624
» CURRENT PATH로 인한 아킹 [RF 접지 면접촉 개선] [1] file 676
114 플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문 [전자 가열 방법 및 생산성에 따른 구별] [1] 872
113 반사파와 유,무효전력 관련 질문 [플라즈마 생성과 가열] [2] 647

Boards


XE Login