현재 반도체 장비 업체에 근무하고 있는 엔지니어입니다.

신입사원 발표 과제로 스퍼터링시 기판 온도 계산하는 과정을 직접 변수를 설정하고 구해보라고 주제를 받았습니다.

대충 타겟 온도를 200도, 냉각 장치를 20도라고 가정하고 타겟은 알루미늄 기판은 유리로 가정해봤는데

여러 열역학 이론을 공부해봤지만 아무래도 기판 온도를 계산하는 법 방향성을 못잡겠습니다..

조언주시면 감사합니다!!

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [284] 77276
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20485
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57401
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68922
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92971
126 CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [1] 53
125 ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [1] 91
124 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [1] 110
» 스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [1] 67
122 플라즈마 설비에 대한 질문 121
121 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] 82
120 Edge ring의 역할 및 원리 질문 [1] 416
119 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 92
118 PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [2] 617
117 CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 [2] 457
116 RF Frequency 가변과 FORWARD POWER의 상관관계 [2] 848
115 CURRENT PATH로 인한 아킹 [1] file 422
114 플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문 [1] 551
113 반사파와 유,무효전력 관련 질문 [2] 382
112 PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의드립니다. [1] 370
111 chamber에 인가 되는 forward power 관련 문의 [1] 383
110 ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [1] file 906
109 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 763
108 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 569
107 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] 661

Boards


XE Login