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번호 | 제목 | 조회 수 |
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공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [234] | 75740 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 19424 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56651 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 67974 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 90165 |
17 | 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] | 26362 |
16 | MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] | 22534 |
15 | Ground에 대하여 | 38952 |
14 | Peak RF Voltage의 의미 | 22482 |
13 | electrode gap | 17882 |
12 | Electrode 의 역할에 대해서 궁금합니다. | 17254 |
11 | 반응기의 면적에 대한 질문 | 12783 |
10 | 플라즈마 분배에 관하여 정보를 얻고 싶습니다. | 13159 |
9 | CCP/ICP에서 자석의 역활에 대하여 | 19293 |
» | esc란? | 27964 |
7 | Virtual Matchng | 16813 |
6 | Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) | 35525 |
5 | 최적의 펌프는? | 18504 |
4 | 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 | 27470 |
3 | Faraday shielding & Screening effect | 18293 |
2 | MFC | 19287 |
1 | 플라즈마 matching | 20091 |