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번호 | 제목 | 조회 수 |
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공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [271] | 76747 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20217 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57169 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68707 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92305 |
22 | Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] | 22240 |
21 | Arcing [1] | 28645 |
20 | RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] | 24773 |
19 | CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [1] | 20382 |
18 | scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다. [2] | 19214 |
17 | 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] | 26470 |
16 | MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] | 22579 |
15 | Ground에 대하여 | 39417 |
14 | Peak RF Voltage의 의미 | 22605 |
13 | electrode gap | 17949 |
12 | Electrode 의 역할에 대해서 궁금합니다. | 17335 |
11 | 반응기의 면적에 대한 질문 | 12809 |
10 | 플라즈마 분배에 관하여 정보를 얻고 싶습니다. | 13203 |
9 | CCP/ICP에서 자석의 역활에 대하여 | 19344 |
» | esc란? | 28070 |
7 | Virtual Matchng | 16853 |
6 | Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) | 35918 |
5 | 최적의 펌프는? | 18541 |
4 | 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 | 27618 |
3 | Faraday shielding & Screening effect | 18355 |