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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다. [VI Phase]
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연면거리에 대해 궁금합니다. [아크 제어]
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매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [RF plasma와 circuit model]
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RF 파워서플라이 매칭 문제
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경전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다.
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analog tuner관련해서 질문드립니다. [박막 플라즈마 및 tunning 원리]
[1] | 819 |
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PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [RF 전원과 matcher]
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주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [Plasma heating]
[1] | 731 |
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RPC ClEAN시 THD 발생 [RF shield와 ground의 강화]
[1] | 720 |
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Edge ring의 역할 및 원리 질문 [플라즈마 밀도 및 전위 제어]
[1] | 689 |
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플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문 [전자 가열 방법 및 생산성에 따른 구별]
[1] | 648 |
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Interlock 화면.mag overtemp의 의미
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Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다.
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Bias인가 Cable 위치 관련 문의 [플라즈마 분포 관찰]
[1] | 600 |
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CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 [플라즈마 회로 설계]
[2] | 555 |
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CURRENT PATH로 인한 아킹 [RF 접지 면접촉 개선]
[1] | 478 |
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PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의 드립니다. [플라즈마 분포와 확산]
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반사파와 유,무효전력 관련 질문 [플라즈마 생성과 가열]
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chamber에 인가되는 forward power 관련 문의 [송전선로 모델 및 전원의 특성]
[1] | 416 |
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Forward와 Reflect가 계속해서 걸립니다. [RF generator]
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