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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64541
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29 CCP/ICP에서 자석의 역활에 대하여 19180
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27 석영이 사용되는 이유? [1] 19671
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19 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22430
18 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22759
17 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23130
16 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24098
15 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24361
14 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24462
13 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24587
12 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 25348
11 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25443
10 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 26031

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