번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] 76908
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20297
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57215
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68765
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92730
23 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [1] file 21116
22 ICP 플라즈마 매칭 문의 [2] 21202
21 Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] 22261
20 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22583
19 Peak RF Voltage의 의미 22621
18 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22951
17 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23346
16 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24623
15 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24766
14 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24780
13 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24893
12 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25588
11 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 26221
10 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 26489
9 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27220
8 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 27653
7 esc란? 28095
6 Arcing [1] 28668
5 matching box에 관한 질문 [1] 29689
4 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) 35964

Boards


XE Login