Matcher Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다.
2022.03.08 15:48
안녕하세요. ICP 타입 Dry Etcher 장비사에서 근무하는 엔지니어입니다.
효율적이고 안정적인 매칭을 위해 Matcher 의 Matching Network 구성을 변경시키곤 합니다.
여기서 궁금한 점이 생겨 교수님께 문의 드립니다.
1. 플라즈마 안정화시 [기존 Matcher + Chamber] 의 임피던스가 8+j5 라고 가정했을때,
Matcher 의 L 또는 C의 H/W를 변경시켜도 [Matcher + Chamber] 가 동일하게 8+j5 값을 갖도록 Tune / Load 가 움직이는지
아니면 기존과 다른 [Matcher + Chamber] 임피던스 값을 갖게 되는지 궁금합니다.
※ 변경 전/후 모두 플라즈마는 안정적
2. Matcher Matching Network 구성 변화가 임피던스 범위 변동 외에 플라즈마 방전시 챔버 임피던스에 영향에 주는지
※ 오직 Matcher 구성만 변경된것으로 가정
이론적으로 어떻게 접근/해석해야하는지 도움 부탁드립니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [271] | 76774 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20224 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57178 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68721 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92387 |
42 | ICP 구성에서 PLASMA IGNITION시 문의 [1] | 9857 |
41 | 플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다..도와주십시오ㅠㅠ [1] | 9975 |
40 | matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] | 10368 |
39 | 반응기의 면적에 대한 질문 | 12809 |
38 | 플라즈마 분배에 관하여 정보를 얻고 싶습니다. | 13205 |
37 | ESC Dechuck과 관련하여 궁금한점이 있어 문의를 드립니다. [1] | 14793 |
36 | Virtual Matchng | 16853 |
35 | ESC Chuck Pit 현상관련 문의 드립니다. | 16947 |
34 | Electrode 의 역할에 대해서 궁금합니다. | 17338 |
33 | electrode gap | 17951 |
32 | Faraday shielding & Screening effect | 18357 |
31 | 최적의 펌프는? | 18542 |
30 | scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다. [2] | 19215 |
29 | MFC | 19334 |
28 | CCP/ICP에서 자석의 역활에 대하여 | 19345 |
27 | [질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [1] | 19838 |
26 | 석영이 사용되는 이유? [1] | 20026 |
25 | 플라즈마 matching | 20239 |
24 | CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [1] | 20385 |
23 | 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [1] | 21110 |