안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [143] 5807
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17213
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 53044
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64479
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 85097
69 13.56MHz resonator 해석 관련 문의 [1] 1773
68 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 1861
67 Si Wafer Broken [2] 1965
66 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 1989
65 Load position 관련 질문 드립니다. [1] 2041
64 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2076
63 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 2103
62 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 2204
61 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [1] 2222
60 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출) [1] file 2226
59 임피던스 매칭회로 [1] file 2260
58 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 2266
57 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 2406
56 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 2796
55 ESC Cooling gas 관련 [1] 3036
54 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 3887
53 matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] 3959
52 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 4534
51 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] 4735
50 안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [3] 5225

Boards


XE Login