안녕하세요.

저는 정전척 제조 회사에 근무하고 있는 서보경입니다.

정전척 관련하여 궁금한 것이 있어 이렇게 문의를 드리게 되었습니다.

자사 5.5세대 정전척 제품이 공정 진행 후 Gate 앞쪽 부위의 외각 He-hole 부위에 burning 현상이 많이 나타납니다.

이러한 현상은 glass를 chucking 하기 전에 이미 plasma 가 유입이 되어 이로 인하여 burning 현상이 나타나는 것으로 예상을

하고 있는데요. 그렇다면 이 현상에 대해 메카니즘이 어떻게 되는 것인지 궁금합니다.  

도움을 주시면 정말 감사하겠습니다.

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
61 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 3112
60 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 3136
59 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 3385
58 ESC Cooling gas 관련 [1] 3514
57 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [1] 3560
56 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 3637
55 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 3858
54 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 4294
53 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 5021
52 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] 5462
51 RF calibration에 대해 질문드립니다. 5784
50 안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [3] 5866
49 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 6249
» 플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의.. [1] 6452
47 ETCH 관련 RF MATCHING 중 REF 현상에 대한 질문입니다. [1] 7062
46 RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [2] 7158
45 정전척 isolation 문의 입니다. [1] 7589
44 RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] 8036
43 Bipolar, J-R Type Electrostatic Chuck 에서의 Discharge 원리가 궁금합니다. 8565
42 ICP 구성에서 PLASMA IGNITION시 문의 [1] 9816

Boards


XE Login