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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 61091
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21 Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] 21694
20 Peak RF Voltage의 의미 22031
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18 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22617
17 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 22991
16 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 23811
15 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24213
14 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24240
13 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24449
12 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 24916
11 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25296
10 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 25721
9 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 26399
8 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 26853
7 Arcing [1] 26855
6 esc란? 27323
5 matching box에 관한 질문 [1] 29040
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