Matcher ICP 플라즈마 매칭 문의

2011.10.05 09:57

김동국 조회 수:20839

안녕하세요. 졸업을 압두고 있는 석사과정의 대학원생입니다.

 

다름이 아니라 졸업논문을 위해 실험하던중 icp플라즈마 매칭 관련 문의를 드릴것이 있어서 이렇게 글을 남깁니다.

 

진공 챔버 전단에 내경 100mm 길이 600mm의 석영관의 반응기가 설치 되어 있고(진공분위기를 위해 0.1Torr~ 0.4Torr)

 

ICP형상의 전극구조가 반응기 위에 코일 형식의 1/4inch 크기의 동파이로 감겨 있습니다.

 

전원공급기로는 RF전원으로 구동주파수 13.56MHz 출력임피던스 50 전력범위 1.6kw의 사양을 갖고 있습니다.

 

RF매칭 박스를 통해 나오는 전원케이블과 그라운드케이블을

 

전극 끝단에 물려있는 상태입니다.

 

바탕가스는 Ar 이 약 200sccm이 흐르고 있습니다.

 

이 시스템 상황에서 플라즈마가 발생이 안되고 있습니다.

 

전원공급기의 디스플레이에서

 

forward power와 reflected power 가 거의 같습니다.

 

전원공급기 업체 기술자 분이 오셔서 매칭 박스 안의 작은 소자 같은걸 교환해보거나

load indicate , tune indicate 를 조작하고

아무튼 해결을 못하고 있습니다.

 

저도 이쪽으로는 지식이 없어 어려움을 겪고 있습니다.

 

매칭 문제에 대해서 기술자분에게 조언을 해줄수 있는 부분이나

다른 도움이 될 수 있는 정보좀 부탁드리겠습니다.

 

감사합니다.

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [110] 4873
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16212
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51247
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63741
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 83500
26 플라즈마 matching 19591
25 [질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [1] 19598
24 CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [1] file 20006
» ICP 플라즈마 매칭 문의 [2] 20839
22 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [1] file 20897
21 Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] 21824
20 Peak RF Voltage의 의미 22139
19 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22377
18 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22700
17 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23082
16 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 23934
15 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24303
14 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24353
13 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24510
12 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 25145
11 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25399
10 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 25872
9 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 26660
8 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 27021
7 Arcing [1] 27210

Boards


XE Login