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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[337]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
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Faraday shielding & Screening effect [Fluctuation과 grid bias]
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최적의 펌프는? [Turbo Pump와 corrosion free]
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MFC [Direct liquid injection]
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30 |
CCP/ICP에서 자석의 역할에 대하여 [ICP와 자기장의 역할]
| 19545 |
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29 |
scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다. [RF matching 및 반응 단면적]
[2] | 19604 |
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Bipolar, J-R Type Electrostatic Chuck 에서의 Discharge 원리가 궁금합니다.
| 19770 |
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27 |
[질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [Plasma 대면재료와 공정법]
[1] | 20113 |
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26 |
석영이 사용되는 이유 [플라즈마 내식성과 불순물 제어]
[1] | 20580 |
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플라즈마 matching [Heating mechanism, matching]
| 20637 |
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CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [플라즈마 확산 및 전력정합 영역 제어]
[1]  | 20730 |
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23 |
ICP 플라즈마 매칭 문의 [Matching과 breakdown]
[2] | 21584 |
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22 |
전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [Coaxial cable과 wave shield]
[1] | 21645 |
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21 |
Dry Etcher 내 reflect 현상 [Chuck 전압/전류 및 field breakdown]
[2] | 22638 |
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MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [Impedance matching과 반사파 형성]
[3] | 22906 |
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19 |
Peak RF Voltage의 의미
| 22945 |
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안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다.
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HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생
| 23535 |
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16 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
| 25101 |
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15 |
RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [장비의 접지, 절연 관리]
[1] | 25120 |
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14 |
ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [ICP Matching과 Circuit model]
[1] | 25362 |
