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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68524
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19 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22565
18 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22919
17 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23305
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15 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24712
14 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24752
13 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24788
12 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25566
11 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 26065
10 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 26435
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5 matching box에 관한 질문 [1] 29626
4 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) 35721
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2 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 41129
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