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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[333]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
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electrode gap
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Faraday shielding & Screening effect [Fluctuation과 grid bias]
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최적의 펌프는? [Turbo Pump와 corrosion free]
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MFC [Direct liquid injection]
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CCP/ICP에서 자석의 역할에 대하여 [ICP와 자기장의 역할]
| 19475 |
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scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다. [RF matching 및 반응 단면적]
[2] | 19478 |
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[질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [Plasma 대면재료와 공정법]
[1] | 20045 |
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석영이 사용되는 이유 [플라즈마 내식성과 불순물 제어]
[1] | 20468 |
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플라즈마 matching [Heating mechanism, matching]
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CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [플라즈마 확산 및 전력정합 영역 제어]
[1]  | 20642 |
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ICP 플라즈마 매칭 문의 [Matching과 breakdown]
[2] | 21504 |
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전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [Coaxial cable과 wave shield]
[1] | 21548 |
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Dry Etcher 내 reflect 현상 [Chuck 전압/전류 및 field breakdown]
[2] | 22548 |
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MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [Impedance matching과 반사파 형성]
[3] | 22827 |
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Peak RF Voltage의 의미
| 22858 |
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안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다.
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HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생
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16 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
| 25005 |
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15 |
RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [장비의 접지, 절연 관리]
[1] | 25031 |
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ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [ICP Matching과 Circuit model]
[1] | 25247 |
