ESC ESC Cooling gas 관련

2019.02.21 19:22

jake88 조회 수:3550

Etch공정에서 ESC Cooling gas로 He을 주로 사용하는데 열전도도가 좋고 불활성가스라는 이유로 많이 사용되는것으로 알고있습니다

비교적 원가가 저렴한 N2가스를 사용하는 경우도 있을까요? 열전도도 반응성이 N2또한 괜찮은것으로 알고있는데 혹시 문제가 있을까요?

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [275] 76850
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20256
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57192
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68746
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92607
62 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 3202
61 RF matcher와 particle 관계 [2] 2954
60 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 2829
59 임피던스 매칭회로 [1] file 2819
58 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출) [1] file 2585
57 Si Wafer Broken [2] 2529
56 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2505
55 Load position 관련 질문 드립니다. [1] 2448
54 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 2355
53 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 2348
52 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 2348
51 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 2335
50 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 2242
49 ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [1] 2075
48 chamber impedance [1] 2013
47 13.56MHz resonator 해석 관련 문의 [1] 1955
46 3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [1] 1918
45 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [1] 1873
44 매칭시 Shunt와 Series 값 [1] 1867
43 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1706
쓰기
태그

Boards

XE Login