|
공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[85]
| 2302 |
|
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 12789 |
|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 49615 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 61093 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[2]
| 78859 |
|
102 |
안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다.
[1] | 45724 |
|
101 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
 | 39962 |
|
100 |
Ground에 대하여
| 34934 |
|
99 |
Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network)
| 34317 |
|
98 |
matching box에 관한 질문
[1] | 29040 |
|
97 |
esc란?
| 27323 |
|
96 |
Arcing
[1] | 26856 |
|
95 |
플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항
| 26854 |
|
94 |
플라즈마 챔버 의 임피던스 관련
[2] | 26400 |
|
93 |
공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제...
[2] | 25721 |
|
92 |
스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요?
| 25296 |
|
91 |
dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐
[3] | 24917 |
|
90 |
RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동
[1] | 24449 |
|
89 |
Reflrectance power가 너무 큽니다.
[1] | 24240 |
|
88 |
ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의
[1] | 24213 |
|
87 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
| 23811 |
|
86 |
HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생
| 22991 |
|
85 |
안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다.
| 22617 |
|
84 |
MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까?
[3] | 22297 |
|
83 |
Peak RF Voltage의 의미
| 22032 |
