ESC ESC Cooling gas 관련

2019.02.21 19:22

jake88 조회 수:3547

Etch공정에서 ESC Cooling gas로 He을 주로 사용하는데 열전도도가 좋고 불활성가스라는 이유로 많이 사용되는것으로 알고있습니다

비교적 원가가 저렴한 N2가스를 사용하는 경우도 있을까요? 열전도도 반응성이 N2또한 괜찮은것으로 알고있는데 혹시 문제가 있을까요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [275] 76820
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20247
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57191
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68739
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92578
82 플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다..도와주십시오ㅠㅠ [1] 9995
81 ICP 구성에서 PLASMA IGNITION시 문의 [1] 9864
80 Bipolar, J-R Type Electrostatic Chuck 에서의 Discharge 원리가 궁금합니다. 8676
79 RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] 8528
78 정전척 isolation 문의 입니다. [1] 7634
77 RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [2] 7246
76 ETCH 관련 RF MATCHING 중 REF 현상에 대한 질문입니다. [1] 7102
75 플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의.. [1] 6485
74 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 6282
73 안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [3] 5925
72 RF calibration에 대해 질문드립니다. 5821
71 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] 5561
70 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 5083
69 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 4333
68 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 3944
67 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 3706
66 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [1] 3637
» ESC Cooling gas 관련 [1] 3547
64 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 3540
63 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 3218

Boards


XE Login