Others Peak RF Voltage의 의미

2004.06.28 01:58

이석환 조회 수:22192 추천:266

질문

안녕하세요...

제가 사용중인 Matching Network 상에 RF Peak Volt가 Display되는데요.
이것의 의미가 궁금하구요, 이 Voltage와 Power와는
어떠한 관계가 있는지 궁금합니다.

감사합니다,.


답변

CCP 나 ICP의 전극이나 안테나에 인가되는 Power은
Current x Voltage 입니다. 여기서 전류나 전압값은 rms 값으로
peak 값의 1/sqrt(2) 값을 뜻하지요. 즉, peak 값은 약 70%에 해당합니다. 따라서 표시되는 전압은 CCP의 경우 power electrode에 인가되는
전압이며 ICP의 경우 안테나에 걸리는 전압의 peak 값입니다. 만일 전류가 일정하다면 전압의 크기가 커지게 되면 당연히 인가 전력이 증가하합니다.  

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [129] 5616
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16915
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51352
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64226
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 84310
109 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] 46624
108 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 40417
107 Ground에 대하여 37976
106 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) 34734
105 matching box에 관한 질문 [1] 29257
104 esc란? 27652
103 Arcing [1] 27384
102 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 27087
101 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 26779
100 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 25934
99 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25427
98 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 25249
97 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24534
96 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24415
95 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24334
94 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24051
93 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23110
92 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22727
91 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22405
» Peak RF Voltage의 의미 22192

Boards


XE Login