안녕하세요. 삼성전자 반도체 메모리 8/9라인 CVD공정에 배치받은 신입사원 허원석이라고 합니다.
한가지 여쭤 보고 싶은 점이 있어 질문을 드리게 되었습니다.

RF Generator를 쓰는 설비에서 ARC, HT-SIN 등의 공정은 RF reflect power가 일정하게 나오는데 비해 유독 ACL공정을 하는 설비에서만 RF reflect power가 일정하지 않은 이유가 무엇인지 궁금합니다.
주로 RF reflect power가 점차 상승하거나 때로는 하락할 때도 있습니다.
같은 Recipe에서도 RF reflect power 파형이 다르게 나타나는 것을 보면 Recipe문제는 아닌 것 같습니다...
(ACL 공정의 RF reflect power 파형 그래프 첨부하겠습니다.)

또한 이런 이유로 인해 Heater등의 Part에서 불량이 더 나는 것은 아닌지 알고 싶습니다.
가르침을 주시면 감사하겠습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [54] 1169
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 888
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49370
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 59412
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 73943
98 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] 42528
» 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 39405
96 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) 34145
95 Ground에 대하여 31128
94 matching box에 관한 질문 [1] 28782
93 esc란? 26751
92 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 26725
91 Arcing [1] 26577
90 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [1] 26249
89 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 25606
88 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25254
87 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 24714
86 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24397
85 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24171
84 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24149
83 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 23718
82 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 22942
81 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22583
80 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22253
79 Peak RF Voltage의 의미 21945

Boards


XE Login