안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [54] 1169
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 887
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49370
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 59412
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 73942
98 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] 42528
97 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 39405
96 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) 34145
95 Ground에 대하여 31128
94 matching box에 관한 질문 [1] 28782
93 esc란? 26751
92 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 26725
91 Arcing [1] 26577
90 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [1] 26249
89 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 25606
88 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25254
87 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 24714
86 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24397
85 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24171
84 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24149
83 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 23718
82 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 22942
81 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22583
80 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22253
79 Peak RF Voltage의 의미 21945

Boards


XE Login