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공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76682
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20152
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57153
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68674
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92189
81 플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다..도와주십시오ㅠㅠ [1] 9953
80 ICP 구성에서 PLASMA IGNITION시 문의 [1] 9845
79 Bipolar, J-R Type Electrostatic Chuck 에서의 Discharge 원리가 궁금합니다. 8633
78 RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] 8112
77 정전척 isolation 문의 입니다. [1] 7609
76 RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [2] 7212
75 ETCH 관련 RF MATCHING 중 REF 현상에 대한 질문입니다. [1] 7082
74 플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의.. [1] 6468
73 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 6264
72 안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [3] 5894
71 RF calibration에 대해 질문드립니다. 5802
70 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] 5509
69 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 5055
68 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 4316
67 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 3902
66 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 3684
65 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [1] 3609
64 ESC Cooling gas 관련 [1] 3524
63 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 3488
62 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 3175

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