안녕하세요

반도체 관련 연구를 진행하고 있는 과정에 궁금한 부분이 있어서 글을 남기게 되었습니다.


아시는 바와 같이 J-R Type ESC는 강한 Chucking Force 대비 Process 진행 후 ESC Surface에 Residual Charge가 남아있게 되어 정전기적 힘에 의해 WF 깨짐이나 Sticking등의 문제가 발생, 추가적인 과정을 통해 잔류전하를 제거해야 합니다. 예를들어 ESC를 Ground or Reverse Voltage or Plasma Dechuck등

그중에 Plasma Dehuck를 사용한 Residual Charge 제거 원리가 궁금합니다.


1. 기본적으로 J-R Type의 ESC 에서 RF를 이용한 Etching 진행시, negative 전자로 발생한 Self DC Bias에 의해 + ion이 WF에 이온 충돌을 사용하는데

Process 과정에서 WF 표면의 Charge 관점만 생각하면 Charge가 0v가 되는게 이론상으로 맞는건가요??? (Electon Flux=Ion Flux의 개념을 기반으로)


2. 공정 Condition에 따라 WF에 잔류 전하가 + 이든 - 이든 미량으로 남아있다고 할때, Plasma Dechuck 과정으로 전하 Neutralize가 일어난다고 하는데 이 과정에서 Low Power Plasma의 전자와 이온이 WF에 입사될때 WF에 남아있는 + 와 - Charge와 Compensation 되는 과정으로 이해하면 될까요???


3. 최종적으로 Process -> Plasma Dechuck 이후에는 WF 상의 Charge가 Zero 인것이 베스트인데, 그렇지 못할경우 이론적으로 WF 상의 잔류 전하는 Positive 일지, Negative 일지 어느정도 예상할수 있을까요?


질문이 모호하긴 한데 WF 표면상의 Charge 와 Plasma Dechuck 과정의 메커니즘이 직관적으로 와닺지가 않습니다.

도움 부탁드립니다, 감사합니다...

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [102] 3671
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 15353
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 50581
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63007
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 82182
65 ICP 구성에서 PLASMA IGNITION시 문의 [1] 9069
64 정전척 isolation 문의 입니다. [1] 7080
» Bipolar, J-R Type Electrostatic Chuck 에서의 Discharge 원리가 궁금합니다. 6906
62 ETCH 관련 RF MATCHING 중 REF 현상에 대한 질문입니다. [1] 6484
61 플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의.. [1] 6155
60 RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] 5686
59 RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [2] 5652
58 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 5573
57 RF calibration에 대해 질문드립니다. 5265
56 안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [3] 4970
55 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] 4380
54 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 3807
53 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 3732
52 matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] 3019
51 ESC Cooling gas 관련 [1] 2722
50 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 2351
49 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출) [1] file 2074
48 임피던스 매칭회로 [1] file 2051
47 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 2016
46 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 1912

Boards


XE Login