안녕하세요 OLED 증착 전 Plasma 전처리 장비를 다루고 있는 엔지니어 입니다.

GAS 주입후 RF 제너레이터에서 파워를 인가할때 최초 반사파또한 공급파워의 80%이상반사되는 현상이 발생중입니다.

Load Tune 값은 크게 변하지 않는 상태이며 최초 공급시 1sec 정도반사파가 크게 나타나다가 빠르게 안정화 되고 있습니다.

이러한 문제의 원인이 어디에 있는지 공부를해서 찾는중인데 쉽지가 않네요 도움주실만한 것이 있을까 해서 여쭙습니다.

좋은 하루 되세요.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] 76908
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20297
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57216
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68765
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92730
63 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 3214
62 RF matcher와 particle 관계 [2] 2989
61 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 2838
60 임피던스 매칭회로 [1] file 2827
59 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출) [1] file 2592
58 Si Wafer Broken [2] 2544
» 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2523
56 Load position 관련 질문 드립니다. [1] 2457
55 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 2371
54 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 2365
53 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 2358
52 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 2347
51 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 2250
50 ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [1] 2104
49 chamber impedance [1] 2018
48 13.56MHz resonator 해석 관련 문의 [1] 1958
47 3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [1] 1921
46 매칭시 Shunt와 Series 값 [1] 1890
45 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [1] 1879
44 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1710

Boards


XE Login