안녕하세요. ETCH 쪽에서 ENG'R로 근무중인 현직자입니다.

 

업무 중 궁금점이 생겨 간단하게나마 공부 후 질문내용 정리하여 문의드립니다.

 

상황
ICP 설비에서 BIAS REFLECT POWER를 줄이기 위하여 RF FREQUENCY TUNE을 이용한 상황입니다.
FREQUENCY TUNE을 사용하면 임피던스 Z가 변하면서 REFLECT POWER가 변하며, FORWARD POWER는 임피던스 Z와 Vpp에 영향을 받는 것으로 알고 있습니다.


질문
  1. 현재 설비는 VOLTAGE MODE를 사용중인데, 이때 Generator에서 인가하는 Voltage가 Vgen이라고 하면 BIAS RF VOLTAGE = Vgen = Vpp 동일한 값을 가지는지 궁금합니다.

 

  2-1 동일하다면, VOLTAGE MODE에서는 FREQUENCY 가변을 하게되면 임피던스의 변화에 따라 BIAS FORWARD POWER가 변한다는 가정이 옳다고 볼 수 있을까요?

  2-2 FORWARD POWER가 변한다는 가정하에, REFLECT POWER 역시 변할텐데, 결과적으로 LOAD POWER도 같이 변할 것으로 생각되는데 해당 가설이 적절한가요?
 
  3. POWER MODE에서는 FORWARD POWER가 SET된 값으로 인가되기때문에 RF Frequency 가변에 따라 Vpp값도 변하여 Forward POWER는  일정한게 맞을까요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [316] 81949
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21840
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58625
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 70248
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 95922
49 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [Matcher와 Plasma Impedence] [1] 1803
48 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [접촉 저항] [2] 1742
47 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [웨이퍼 bending] [1] file 1736
46 알고싶습니다 [Seasoning, 플라즈마 공정 및 부품 표면 특성 데이터] [1] 1625
45 반도체 관련 플라즈마 실험 [Plasma experiment] [1] 1590
44 Impedence 위상관련 문의 [Circuit model, matching] [1] 1577
43 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [Byproduct와 gas flow, cleaning] [1] 1577
42 ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 1577
41 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1569
40 MATCHER 발열 문제 [Mathcer와 plasma impedance] [3] 1567
39 CCP챔버 접지 질문드립니다. [장치의 접지 일체화] [1] file 1450
38 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [플라즈마 전류량] [1] 1430
37 RF 반사파와 이물과의 관계 [Physical/chemical cleaning] [1] 1273
36 대학원 진학 질문 있습니다. [전공 설계] [2] 1267
35 Plasma Arching [Plasma property] [1] 1230
34 RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [Ground와 Clamp] [1] 1142
33 고진공 만드는방법. [System material과 design] [1] 1122
32 ICP VIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [Plasma breakdown 및 생성] [1] file 1121
31 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [오존발생기] [1] 1093
» RF Frequency 가변과 Forward Power의 상관관계 [임피던스 매칭] [2] 1059

Boards


XE Login