안녕하세요.

반도체 관련 업종에 취직한 신입입니다.

현재 사내 플라즈마 테스트 장비에서의 매쳐 값을 검토 하는 중 막히는 부분이 있는 중

장비를 뜯어보기도 어렵고, 전임자는 이미 퇴사하여 혼자 이것저것 찾으며 하려니 도움 청할데가 마땅히 없어서 글 올립니다..


매쳐의 테스트 결과 데이터를 뜯어본 내용은 다음과 같습니다

 XC1 = (READ_AIO(RF_LOAD) + 0.00001) * 15 * 0.000000000001;
 XC2 = (READ_AIO(RF_TUNE) + 0.00001) * 5 * 0.000000000001;
 A = 3.141592 * 2 * 13560000;

 d1 = Power(50, 2);  제곱
 d2 = Power(1 / (A * XC1), 2);  제곱
 R = (50 * d2) / (d1 + d2);
 J = -(d1 * 1 / (A * XC1)) / (d1 + d2) + (A * 0.0000012) - (1 / (A * XC2));

결과는 대략  z=2.269+j56.126 정도 나옵니다.


얕은 지식으로는 XC1, XC2는 매쳐에서의 직, 병렬 가변 커패시터 값을,

A는 각속도 ω, J 에서 (A * 0.0000012) 값은 인덕터 값으로 보여집니다.


하지만 이외의 값들은 어떻게 저런 계산이 도출되었는지 이해가 되지 않습니다.

일반적인 L 타입 매쳐는 아닌 것으로 보여 상기 값으로 매쳐의 임피던스가 도출 되려면 어떤 회로로 구성되어있는지 알고 싶습니다.

도움 부탁 드립니다.


감사합니다.


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] 76888
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20284
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57204
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68758
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92713
» 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 848
22 ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [1] file 833
21 RF 파워서플라이 매칭 문제 832
20 RF Frequency 가변과 FORWARD POWER의 상관관계 [2] 791
19 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 726
18 analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] 661
17 RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 645
16 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] 632
15 Interlock 화면.mag overtemp의 의미 589
14 PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [2] 586
13 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 557
12 Bais 인가 Cable 위치 관련 문의 [1] 551
11 플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문 [1] 515
10 CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 [2] 426
9 CURRENT PATH로 인한 아킹 [1] file 407
8 chamber에 인가 되는 forward power 관련 문의 [1] 368
7 반사파와 유,무효전력 관련 질문 [2] 359
6 PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의드립니다. [1] 346
5 Edge ring의 역할 및 원리 질문 [1] 297
4 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 81

Boards


XE Login