안녕하세요 반도체 회사에 다니고있는 구성원입니다.

에칭장비를 담당하는데, 챔버 pm후 RF가 세팅값까지 안올라오는 경우

오토매칭을 사용하지 않고, 매쳐의 LOAD,TUNE값을 조절해서 RF POWER를 원하는 값으로 맞추는데요

원리를 모르고 하다보니, 시간이 오래걸리고, 조절하다보면 FORWARD값은 맞춰지지만 REFLECT값도 함께 올라가서

애를먹는 경우가 있습니다

매쳐에서 LOAD, TUNE의 역할은 무엇인가요??? 또한 원하는 FORWARD/REFLECT값을 얻기위해 LOAD/TUNE 조절을 쉽게 할 수 있는 방법이 있을까요?

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76540
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
42 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 56
41 PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [2] 503
40 RF Frequency 가변과 FORWARD POWER의 상관관계 [2] 650
39 CURRENT PATH로 인한 아킹 [1] file 380
38 반사파와 유,무효전력 관련 질문 [2] 337
37 Plasma Arching [1] 1025
36 RF 파워서플라이 매칭 문제 799
35 RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [1] 1001
34 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 1479
33 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] 1250
32 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1445
31 매칭시 Shunt와 Series 값 [1] 1808
30 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 2270
29 RF 반사파와 이물과의 관계 [1] 1099
28 Load position 관련 질문 드립니다. [1] 2417
27 Interlock 화면.mag overtemp의 의미 578
26 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 3858
» matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] 10225
24 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 835
23 임피던스 매칭회로 [1] file 2789

Boards


XE Login