안녕하세요. 직장에서 Etcher를 다루고 있습니다.


저희 장비 중 Microwave Plasma를 사용하고, 여기에서 Impedance를 Matching하는 Matcher가 있습니다.


이 Matcher는 아래 도파관이 있고, 그 위에 3개의 Stub가 있는데, 정확하게 Matching을 진행하는 원리가 궁금합니다.


다른 ICP하고는 달리 Matcher가 회로로 되어 있는 것이 아니니 머리속으로 물리적인 현상을 떠오르는데 어려움이 있네요.


원리가 표현된 관련 문헌이나 자료가 있으면 더욱 감사드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [160] 73081
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17644
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 55521
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 65739
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 86108
37 Interlock 화면.mag overtemp의 의미 473
36 RF 파워서플라이 매칭 문제 523
35 Plasma Arching [1] 547
34 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 683
33 RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [1] 692
32 RF 반사파와 이물과의 관계 [1] 804
31 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] 873
30 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 969
29 매칭시 Shunt와 Series 값 [1] 1102
28 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1232
27 MATCHER 발열 문제 [3] 1255
26 Impedence 위상관련 문의.. [1] 1274
25 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 1442
» 3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [1] 1699
23 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 1799
22 13.56MHz resonator 해석 관련 문의 [1] 1801
21 Load position 관련 질문 드립니다. [1] 2105
20 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2134
19 임피던스 매칭회로 [1] file 2329
18 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 2357

Boards


XE Login