안녕하세요 OLED 증착 전 Plasma 전처리 장비를 다루고 있는 엔지니어 입니다.

GAS 주입후 RF 제너레이터에서 파워를 인가할때 최초 반사파또한 공급파워의 80%이상반사되는 현상이 발생중입니다.

Load Tune 값은 크게 변하지 않는 상태이며 최초 공급시 1sec 정도반사파가 크게 나타나다가 빠르게 안정화 되고 있습니다.

이러한 문제의 원인이 어디에 있는지 공부를해서 찾는중인데 쉽지가 않네요 도움주실만한 것이 있을까 해서 여쭙습니다.

좋은 하루 되세요.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [317] 82874
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 22004
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58784
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 70420
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 96409
22 Load position관련 질문 드립니다. [Impedance matching] [1] 2622
21 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [회로인자 및 구동기구, 플라즈마 특성] [1] 2686
» 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [최적 정합 조건 및 정합 시간] [2] 2696
19 임피던스 매칭회로 [전기공학 회로 이론 및 impedance matching] [1] file 3014
18 Depostion 진행 중 matcher(shunt, series) 관계 질문 [Matcher와 VI sensor] [3] 4338
17 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [RF 전력 전달] [1] 5352
16 RF calibration에 대해 질문드립니다. 5993
15 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [플라즈마 임피던스 및 내부 임피던스 변화] [2] 6487
14 ETCH 관련 RF MATCHING중 REF 현상에 대한 질문입니다. [플라즈마 응답 특성] [1] 7292
13 RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [연속공정] [4] 9096
12 ICP 구성에서 PLASMA IGNITON시 문의 [ICP와 플라즈마 발생] [1] 10097
11 matcher에서 load, tune의 역할이 궁금합니다. [Matcher와 impedance] [1] 11200
10 Virtual Matching [Impedance matching] 16908
9 scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다. [RF matching 및 반응 단면적] [2] 19329
8 플라즈마 matching [Heating mechanism, matching] 20404
7 ICP 플라즈마 매칭 문의 [Matching과 breakdown] [2] 21338
6 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [Impedance matching과 반사파 형성] [3] 22671
5 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23405
4 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 [Matching과 particle] 27808
3 matching box에 관한 질문 [ICP Source 설계] [1] 29847

Boards


XE Login