안녕하세요. 반도체 장비 기업에 다니고 있는 엔지니어 입니다.

 

다름이 아니라 CCP 방식을 쓰는 장비를 운용하기 위해서 매칭을 하는데,

 

매칭을 잘? 혹은 효율적으로 빠르게 하기 위해서 처음에 Shunt, Series 값을 지정해 주고 있습니다.

 

그렇게 하래서 하고는 있는데 이 값들이 매칭에 어떤 영향을 끼치게 되는 것인지 궁금합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102754
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24678
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61392
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73462
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105799
44 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [Matching과 L-type] [1] 48925
43 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) [Matching Q factor와 negative ion] 36420
42 matching box에 관한 질문 [ICP Source 설계] [1] 30057
41 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 [Matching과 particle] 28027
40 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23474
39 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [Impedance matching과 반사파 형성] [3] 22818
38 ICP 플라즈마 매칭 문의 [Matching과 breakdown] [2] 21500
37 플라즈마 matching [Heating mechanism, matching] 20513
36 scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다. [RF matching 및 반응 단면적] [2] 19476
35 Virtual Matching [Impedance matching] 16991
34 matcher에서 load, tune의 역할이 궁금합니다. [Matcher와 impedance] [1] 12568
33 ICP 구성에서 PLASMA IGNITON시 문의 [ICP와 플라즈마 발생] [1] 10464
32 RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [연속공정] [4] 9614
31 ETCH 관련 RF MATCHING중 REF 현상에 대한 질문입니다. [플라즈마 응답 특성] [1] 7556
30 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [플라즈마 임피던스 및 내부 임피던스 변화] [2] 6798
29 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [회로인자 및 구동기구, 플라즈마 특성] [1] 6528
28 RF calibration에 대해 질문드립니다. 6173
27 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [RF 전력 전달] [1] 5780
26 Depostion 진행 중 matcher(shunt, series) 관계 질문 [Matcher와 VI sensor] [3] 4771
25 임피던스 매칭회로 [전기공학 회로 이론 및 impedance matching] [1] file 3346

Boards


XE Login