안녕하세요 반도체 회사에 다니고있는 구성원입니다.

에칭장비를 담당하는데, 챔버 pm후 RF가 세팅값까지 안올라오는 경우

오토매칭을 사용하지 않고, 매쳐의 LOAD,TUNE값을 조절해서 RF POWER를 원하는 값으로 맞추는데요

원리를 모르고 하다보니, 시간이 오래걸리고, 조절하다보면 FORWARD값은 맞춰지지만 REFLECT값도 함께 올라가서

애를먹는 경우가 있습니다

매쳐에서 LOAD, TUNE의 역할은 무엇인가요??? 또한 원하는 FORWARD/REFLECT값을 얻기위해 LOAD/TUNE 조절을 쉽게 할 수 있는 방법이 있을까요?

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102617
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24654
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61354
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73436
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105739
44 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [Matching과 L-type] [1] 48915
43 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) [Matching Q factor와 negative ion] 36416
42 matching box에 관한 질문 [ICP Source 설계] [1] 30052
41 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 [Matching과 particle] 28024
40 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23474
39 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [Impedance matching과 반사파 형성] [3] 22818
38 ICP 플라즈마 매칭 문의 [Matching과 breakdown] [2] 21493
37 플라즈마 matching [Heating mechanism, matching] 20510
36 scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다. [RF matching 및 반응 단면적] [2] 19475
35 Virtual Matching [Impedance matching] 16987
» matcher에서 load, tune의 역할이 궁금합니다. [Matcher와 impedance] [1] 12548
33 ICP 구성에서 PLASMA IGNITON시 문의 [ICP와 플라즈마 발생] [1] 10460
32 RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [연속공정] [4] 9605
31 ETCH 관련 RF MATCHING중 REF 현상에 대한 질문입니다. [플라즈마 응답 특성] [1] 7556
30 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [플라즈마 임피던스 및 내부 임피던스 변화] [2] 6794
29 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [회로인자 및 구동기구, 플라즈마 특성] [1] 6526
28 RF calibration에 대해 질문드립니다. 6170
27 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [RF 전력 전달] [1] 5774
26 Depostion 진행 중 matcher(shunt, series) 관계 질문 [Matcher와 VI sensor] [3] 4769
25 임피던스 매칭회로 [전기공학 회로 이론 및 impedance matching] [1] file 3345

Boards


XE Login