안녕하세요 반도체 회사에 다니고있는 구성원입니다.

에칭장비를 담당하는데, 챔버 pm후 RF가 세팅값까지 안올라오는 경우

오토매칭을 사용하지 않고, 매쳐의 LOAD,TUNE값을 조절해서 RF POWER를 원하는 값으로 맞추는데요

원리를 모르고 하다보니, 시간이 오래걸리고, 조절하다보면 FORWARD값은 맞춰지지만 REFLECT값도 함께 올라가서

애를먹는 경우가 있습니다

매쳐에서 LOAD, TUNE의 역할은 무엇인가요??? 또한 원하는 FORWARD/REFLECT값을 얻기위해 LOAD/TUNE 조절을 쉽게 할 수 있는 방법이 있을까요?

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [143] 5832
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17288
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 53125
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64504
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 85117
37 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] 46785
36 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) 34846
35 matching box에 관한 질문 [1] 29311
34 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 27159
33 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23129
32 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22427
31 ICP 플라즈마 매칭 문의 [2] 20921
30 플라즈마 matching 19748
29 scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다. [2] 19015
28 Virtual Matchng 16734
27 ICP 구성에서 PLASMA IGNITION시 문의 [1] 9265
26 ETCH 관련 RF MATCHING 중 REF 현상에 대한 질문입니다. [1] 6644
25 RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] 6283
24 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 5766
23 RF calibration에 대해 질문드립니다. 5421
22 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 4545
» matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] 3995
20 임피던스 매칭회로 [1] file 2266
19 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 2215
18 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2080

Boards


XE Login