안녕하세요 교수님, 교수님의 답변으로 이해도가 점점 깊어지고 있어 진심으로 감사 말씀드립니다.
오늘은 아래 세가지 질문 있습니다, 바쁘신 와중에 다시 한번 감사 말씀드립니다.

 

1. 설비에서 RF POWER를 SET 할 수 있는데, 상수로 SET이 가능합니다. 이 때 이 상수 값은 유효전력, 순시전력 중 어떤 값인가요?

 

2. 위의 SET 값은 다음과 같은 두 값의 합 이기도 한데요( SET POWER = FORWARD POWER + REFFLECT POWER) 

제일 궁금한 것은, 만일 SET 값이 유효전력이라면(3상 전력의 진폭 값)면 이해가 안가는 부분이 있는데요,

예를들어 SET POWER = 100W, FORWRAD POWER = 100W 라고 가정 할 경우, MATCHING 이후엔 GENERATOR 의 저항은 50 옴, CHAMBER의 저항도 50옴을 갖게 될텐데, 어떻게 100W 가 CH에  그대로 전달 되는 것인지 모르겠습니다. GENERATOR의 저항도 소비할테니까요.
100W라는게 3상 전력에서 COS 세타값을 1로 본 것인데, 이상적인 MATCHING 이후에도 세타는 0이므로 COS 1이지만, GEN의 저항과 ,CH 의 저항 각각이 유효전력을 나눠서 소비하는거 아닌가요? 그렇다면 100W보다는 작은 값이어야하는게 맞지 않나 생각되어서요.

-> 결과적으로 SET값이 제너레이터의 저항을 무시하고 인가되는 것을 보이는데 어떤부분을 이해 못하고 잇는것인지 여쭙습니다.

 

 3. 마지막으로 반사파와 무효전력의 관계입니다. CHAMBER에 최대 전력이 전달되지 않는 이유는 'CH의 CAP, INDUCTOR 성분 때문에 발생한 위상차' 때문으로 알고 있습니다. 그리고 반사파가 생기는 이유는 IMPEDANCE MISS MATCH 때문인 것으로 알고 있는데요,
그렇다면 CAP과 INDUCTOR에 소모되는 무효전력과 반사파는 관계가 있다고 보입니다. 

그래서 제 생각은  반사파 = 전달되지 못한 유효전력 = 인가하는 전력(SET값) -  V* I * COS 

                        무효전력 = CAP, INDUCOR에 소비되는 전력 = V*I* SIN

      -> 결과적으로 수식으론 관계가 없으나, 무효전력이 생김으로써 반사파 역시 일어날 수 밖에 없는것이라 이해하면 되는지요?

 

 

진심으로 감사드립니다, 교수님의 답변으로 업무에 많은 도움이 되고 있습니다.

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [275] 76816
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20246
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57186
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68738
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92575
42 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] 47859
41 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) 35934
40 matching box에 관한 질문 [1] 29678
39 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 27636
38 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23336
37 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22580
36 ICP 플라즈마 매칭 문의 [2] 21197
35 플라즈마 matching 20245
34 scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다. [2] 19216
33 Virtual Matchng 16855
32 matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] 10389
31 ICP 구성에서 PLASMA IGNITION시 문의 [1] 9858
30 RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] 8514
29 ETCH 관련 RF MATCHING 중 REF 현상에 대한 질문입니다. [1] 7102
28 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 6281
27 RF calibration에 대해 질문드립니다. 5819
26 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 5081
25 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 3942
24 임피던스 매칭회로 [1] file 2814
23 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2503

Boards


XE Login