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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63756
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147 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 file 38
146 Polymer Temp Etch [1] 62
145 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 106
144 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 360
143 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 408
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141 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 415
140 doping type에 따른 ER 차이 [1] 275
139 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 351
138 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 428
137 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 583
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134 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 456
133 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 445
132 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 1010
131 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 1167
130 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 419
129 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 277
128 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 527
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