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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 61622
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144 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 99
143 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 179
142 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 242
141 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 241
140 doping type에 따른 ER 차이 [1] 189
139 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 189
138 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 270
137 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 473
136 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3333
135 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 453
134 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 306
133 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 374
132 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 747
131 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 971
130 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 310
129 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 227
128 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 395
127 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 623
126 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 365
125 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 365
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