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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[313]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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산업용 플라즈마 내에서 particle의 형성
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박막 형성 [ICP와 MOCVD]
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PMMA(폴리메틸메타크릴레이트)의 표면개질에 관해
[1] | 15715 |
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Ar traction에 따른 Plasma 특성 질문입니다. [Chamber wall과 radical reaction]
[1] | 15909 |
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Sputter
| 15944 |
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몇가지 질문있습니다
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nodule의 형성원인
| 16816 |
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46 |
sputter
| 16891 |
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플라즈마 처리 [표면처리와 Plasma Chemistry]
| 16971 |
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ICP 식각에 대하여… [Electronegative plasma]
| 16995 |
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[re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문 입니다.
| 17246 |
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교육 기관 문의
| 17813 |
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스퍼터링 후 시편표면에 전류가 흘렀던 흔적 [Capacitance와 DC ripple]
| 17906 |
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플라즈마 응용분야
| 17913 |
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안녕하세요 반도체 공정 중 용어의 개념이 헷갈립니다. [공정 용법]
[1] | 17967 |
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Plasma of Bio-Medical Application
| 18030 |
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Splash 발생 및 감소 방안은 없는지요? [Splash와 TG Maker]
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증착에 대하여...
| 18147 |
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sputtering
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물리적인 sputterting
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