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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69251
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93627
192 HF PLASMA DEPOSITION 시 POWER에 따른 DEP RATE 변화 new 0
191 Dielectric Etcher(CCP)에서 사용하는 주파수 [1] 52
190 가스 조성 및 온도에 따른 식각률 관련 질문입니다. [Arrhenius equation 이해] [1] 56
189 RF sputtering reflect power에 대해서 질문 남깁니다. 46
188 ExB drift 식 유도 과정에서의 질문 [삼각함수의 위상각] [1] 44
187 Debey Length에 대해 문의 드립니다. [플라즈마 정의와 Deybe length] [1] 83
186 플라즈마 식각 공정 중 폴리머의 거동 [재료 표면 반응] [1] 2181
185 Wafer Capacitance 성분과 Vdc 관계 문의드립니다. [Sheath 크기 및 전위 분포] [1] 137
184 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [Sheath uniformity 이해] [1] 148
183 플라즈마 식각 커스핑 식각량 77
182 Sputtering을 이용한 film deposition [진공 및 오염입자의 최소화] [1] 212
181 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [Base pressure 이해] [1] 113
180 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [Ar, O2 플라즈마 생성 특성] [1] 276
179 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [부착물의 흡착 관리] [1] 106
178 Etch Plasma 관련 문의 건.. [RF 주파수와 플라즈마 주파수] [1] 328
177 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 231
176 AP plasma 공정 관련 문의 [OES 활용 장비 플라즈마 데이터 분석] [1] 231
175 Cu migration 방지를 위한 스터디 [전자재료] [1] 280
174 gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [박막 문제] [1] 316
173 PECVD Uniformity [플라즈마 균일도 제어] [1] 672

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