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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73495
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174 스퍼터링시 시편 두께와 박막두께 [박막의 하전량 변화] [1] 22036
173 UBM 스퍼터링 장비로… [UBM과 열팽창 및 coating] [1] 21190
172 plasma cleanning에 관하여 [Sputtering과 Etch] 20973
171 wafer 전하 소거: 경험 있습니다. 20603
170 RIE장비 에서 WALL 과 TOP 온도 20565
169 Sputter 시에 Gas Reaction 에 대해 문의 드립니다. 20555
168 DCMagnetron Sputter에서 (+)전원 인가시 [플라즈마 부유 전위] 19802
167 DC SPT 문의 [절연체의 전위] 19777
166 H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문 입니다. [2] 19736
165 플라즈마를 이용한 폐기물 처리 [코로나 방전, 먼지 집진] 19732
164 플라즈마를 이용한 박막처리 19695
163 Full Face Erosion 관련 질문 [2] 19638
162 플라즈마의 환경이용 18851
161 안녕하세요 반도체 공정 중 용어의 개념이 헷갈립니다. [공정 용법] [1] 18704
160 물리적인 sputterting 18479
159 sputtering 18437
158 증착에 대하여... 18213
157 Splash 발생 및 감소 방안은 없는지요? [Splash와 TG Maker] 18195
156 스퍼터링 후 시편표면에 전류가 흘렀던 흔적 [Capacitance와 DC ripple] 18124
155 Plasma of Bio-Medical Application 18069

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