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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68759
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64 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 1195
63 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 1195
62 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 1182
61 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1175
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59 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 1138
58 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 1133
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55 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 1092
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53 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 1071
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50 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 899
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47 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 854
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