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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68754
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44 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 745
43 ICP 후 변색 질문 733
42 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 733
41 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 727
40 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 707
39 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 695
38 Polymer Temp Etch [1] 677
37 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 674
36 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 637
35 remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] 628
34 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 624
33 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 621
32 RF Sputtering Target Issue [2] file 615
31 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 612
30 Plasma 표면개질에 대해 질문드립니다. [1] 569
29 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 557
28 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] 548
27 PECVD Uniformity [1] 548
26 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 491
25 magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] 473

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