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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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ICP dry etch 시 공정 문의 사항.
[1] | 233 |
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화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [환경 플라즈마]
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Dielectric Etcher(CCP)에서 사용하는 주파수 [Plasma frequency 및 RF sheath]
[2] | 205 |
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Debey Length에 대해 문의 드립니다. [플라즈마 정의와 Deybe length]
[1] | 201 |
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가스 조성 및 온도에 따른 식각률 관련 질문입니다. [Arrhenius equation 이해]
[1] | 193 |
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공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [Sheath uniformity 이해]
[1] | 183 |
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Wafer Capacitance 성분과 Vdc 관계 문의드립니다. [Sheath 크기 및 전위 분포]
[1] | 168 |
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HF PLASMA DEPOSITION 시 POWER에 따른 DEP RATE 변화 [장비 플라즈마, Rate constant]
[1] | 158 |
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5 |
Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [Base pressure 이해]
[1] | 147 |
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RF sputtering reflect power에 대해서 질문 남깁니다.
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3 |
ExB drift 식 유도 과정에서의 질문 [삼각함수의 위상각]
[1] | 125 |
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2 |
플라즈마 식각 커스핑 식각량
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1 |
ICP 장비 TCP Reflect 발생 간 조언 부탁드립니다.
[1] | 47 |
