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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68062
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154 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 510
153 OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [1] 27874
152 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 654
151 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2343
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145 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 359
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142 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 940
141 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 785
140 doping type에 따른 ER 차이 [1] 1950
139 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 3976
138 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 1586
137 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 984
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135 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 1048
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