안녕하십니까

저는 DRY Etch 하부 정전척(ESC) 세정/재생 업체에 다니고 있는 최균호 라고 합니다.

고객사에 납품하여 Run중인 ESC에서 He Flow라는 알람이 자주 발생하여 문의 드립니다.

상부 Glass면과 ESC 사이에 Cooling을 위한 He Gas를 공급하는데

공급 과정 중 He Pressure의 이상이 있을 때 발생하는 것이 He Alaram 입니다.

He Flow 발생품 입고 검사 시 Glass를 안착시키는 Dam부 및 Cooling 면의 외관적인 문제점은 존재 하지 않고

전기적인 특성조차 큰 특이점을 찾아 볼 수 없습니다.

고객사 측에서도 뚜렷한 원인은 알 수 없다고 하네요.

 

Cooling Gas Flow (Gas Leak) 발생 원인이 대체로 무엇인지, 그에 따른 해결 방안을 가지고 계신다면

알려 주실 수 있을까요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 103163
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24696
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61488
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73506
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105911
114 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [Etch와 IEDF] [2] 4221
113 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [Flow rate와 moral ratio, resident time] [1] 3741
112 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [핵융합 연구소] [1] 794
111 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [MFC와 residence time] [1] 2606
110 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [하전에 의한 전기장 형성 및 방전 시간] [1] 4270
109 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [플라즈마 방전 및 이온 가속] [1] 1528
108 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 3219
107 PEALD관련 질문 [Passivation 막 증착 과정] [1] 33026
106 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다. [플라즈마 식각기술, Plasma Etching] [3] 1361
105 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 1018
104 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [소자 식각 데미지] [1] 2534
103 PECVD 증착에서 etching 관계 [PECVD 증착] [1] 2206
102 터보펌프 에러관련 [터보 펌프 구동 압력] [1] 2068
101 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [라디컬의 화학반응성 및 DC 타깃 전극] [1] 1790
100 산소 양이온의 금속 전극 충돌 현상 [플라즈마 표면 반응] [1] 2814
99 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [수소의 확산과 쉬스에 의한 가속] [4] 1605
98 magnetic substrate와 플라즈마 거동 [대면 재료의 전기적 특성와 플라즈마 쉬스의 변화] [3] 727
97 Pecvd장비 공정 질문 [Dusty plasma와 벽면 particle 제어] [1] 2100
» DRY Etcher Alarm : He Flow 관점 문의 드립니다. [O ring 결합부 근처 leak detect] [1] 2912
95 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [Chamber impedance와 공정 드리프트 진단 인자] [1] 1498

Boards


XE Login