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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다.
[1] | 7581 |
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미국의 RF 관련 회사 문의드립니다.
[1] | 9989 |
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Ar fraction에 따른 Plasma 특성 질문입니다.
[1] | 15637 |
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[Sputter Forward,Reflect Power]
[1] | 28359 |
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RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다.
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Sputter 시에 Gas Reaction 에 대해 문의 드립니다.
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H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문 입니다.
[2] | 19139 |
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[re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문에 대한 답변 드립니다.
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[re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문 입니다.
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45 |
ECR plasma 장비관련 질문입니다.
[2] | 34655 |
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UBM 스퍼터링 장비로...
[1] | 20729 |
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N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요
[2] | 23332 |
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H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점...
[1] | 24290 |
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몇가지 질문있습니다
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Dry Etcher 에 대한 교재
[1] | 22359 |
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Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계
[1] | 22257 |
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38 |
Full Face Erosion 관련 질문
[2] | 19375 |
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37 |
RF에 대하여...
| 28606 |
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Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제
| 23791 |
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DC Bias Vs Self bias
[5] | 30722 |
